開発事例11：真空ナノインプリント装置 EVN5150
開発事例の概要
- ＵＶナノインプリントによるデバイス製造の検討試験に最適な実験機です。
- 真空チャンバ内での定圧インプリント機構（特許出願中）の実現により、
気泡の噛み込みを抑えたインプリント実験が可能です。 - 真空チャンバを用いて特定気体雰囲気下でのインプリント実験が可能です。
- □６インチ（最大）のインプリント実現により実プロセスの検討に最適です。
- ナノインプリント装置開発のパイオニアが贈る研究開発向け本格ＮＩＬ装置です。
お客様の課題
真空ＵＶ式ナノインプリント装置カタログ (PDF:974KB)
真空ナノインプリント装置 ＥＶＮ５１５０
- □６インチワークに対応します（150mmx150mm 最大）。
- 高輝度ＵＶ－ＬＥＤ光源による安定した照射が行えます
（有効照射エリア150mmx150mm λ=365nm±5nm 6mW/cm^2）。 - エアシリンダによる定圧プレスを行います。プレス時の高さ調節は不要です。
- プレス部の平行度調整機構つきです（分解能 約1μm）。
開発事例11：真空ナノインプリント装置
