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開発事例3ナノインプリント装置

開発事例の概要

  • 高精度ナノインプリント装置の共同研究開発
  • 世界に先駆けた熱式インプリントによる量産アプリケーションを開発
  • 実験から生産ラインまで幅広く対応

お客様の課題

ナノインプリントとは、ナノメートル(10億分の1メートル)単位の立体構造を持った型(原版)を材料に押し当てて熱や圧力を加えることで、一般的な露光装置よりもはるかに高精度な微細加工を可能にする最新テクノロジーのこと。光の波長に近い反復構造により特殊な光学特性を実現した光学フィルムシートなど、さまざまな分野への応用が期待されています。

しかし、このナノインプリント装置を商用化するには、温度や圧力の面内均一性や経時的応答性、インプリント面の平面度・平行度、インプリント時の押し付け分解能などを極限まで高めた様々な実験条件を満たす機械構造の実現が不可欠になります。少数精鋭型の先端ものづくり企業であるSCIVAX社から当社がご相談を受けた2004年当時は、まだこの水準を実現できたメーカーは存在しておらず、「単なる精密プレスとは一線を画したナノオーダーの微細構造の転写条件を見極められる装置をいかに具現化するか?」が業界全体の技術的課題となっていました。

当社の果たした役割

2000年には、姫路工業大学(現兵庫県立大学)との共同研究による超音波成型技術や、(独)産業技術総合研究所(産総研)と共同開発した超音波離型技術などを応用し、それまでの方式では困難だった形状・素材でのナノ構造の転写に成功しました。また、真空中1400℃以上での成形や、高精度なステップアンドリピート方式のインプリント装置を業界に先駆けて開発し、それまでの障害となっていた実際の製品生産に必要とされるスループット向上や石英ガラスに対するインプリントにも道筋をつけました。そして2003年5月には、共同開発プロジェクトの成果を通して、低コスト・高精度なナノインプリント実験装置「EHE-010」を完成させました。このモデルをベースに様々な実験用・生産用ナノインプリンタをお客様にご提供させていただいています。


SCIVAX社からコンサルタントアライアンスパートナとしての指名を受けた当社は、同社との緊密な協力体制のもと、2003年末よりナノインプリント装置の研究開発プロジェクトを開始。豊富なノウハウと実験での試行錯誤を通して、ナノインプリントにおける基礎的実験に必要なあらゆる要素の実現を可能とした「VXシリーズ」を開発しました。この「VXシリーズ」は、インプリントステージの精密な「温度プロファイル調整」「押し位置制御」「押し圧制御」のみならず、「高速昇降温システム」「超微動平行調整機構(特開2007-296530、特開2006-098192他)」「磁歪素子を用いた加振システム(特開2006-205207)」などの機構の実現を含んだ先駆的なモデルで、現在はナノインプリント分野のリーディングカンパニーとして活躍するSCIVAX社をはじめ、多くの先端企業にご利用いただいています。

 

「エンジニアリングシステム殿とのアライアンスにより、
従来技術ではできなかったフィルム上への3次元ナノオーダー微細加工ができました。」

SCIVAX社
営業統括部長 和地順蔵様

開発事例3:ナノインプリント装置

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