エンジニアリング・システム株式会社 あなたの課題解決研究所
エキシマUV光洗浄装置
製品概要
・本装置は、エキシマUV光洗浄照射器を用いた、ウェハ洗浄装置です。 供給キャリアからウェハを1枚づつ取りだし、洗浄後に収納キャリアに搬送します。
・洗練された搬送系を含む装置構成により、高速な処理を実現しています。
・均一なUV照射光量の実現により、安定した製品製造が行えます。
仕様
| EEU010 | ||
|---|---|---|
| 装置全般 | ||
| 外寸 | W1,200×D1,100×H1,700 | 装置上部取りつけの表示灯高さを含まず |
| 重量 | 320kg以内 | |
| クリーン仕様 | クラス1,000仕様 | |
| ユーティリティ | 電源：AC200V3φ 30A | 真空：60kPa(450mmHg)以上 （専用真空ポンプ付属 |
| 圧空：0.4Mpa以上（工場圧空） | ||
| N2：0.4Mpa以上 | ||
| 排気：φ50mmダクト（工場排気） | ||
| 処理能力 | 20sec/枚以下（2"平均） | 洗浄時間を含まず |
| 対応ウェハサイズ | 2"~3" | 改造可 |
| ウェハカセット | 2"~3"用 | 改造可 |
| 洗浄ステージ部 | ||
| 照射窓寸法 | □100 | |
| 照射均一度 | ±15% | |
| 平均照射照度 | 約10mw/cm以上 | |
| ランプ本数 | 1本 | |
| 照射窓材質 | 合成石英ガラス | |
| 照射ステージ | □100mmアルミ＋特殊コーティング | |
| 照射距離 | 2～50mm | |
| オゾンパージ | N2による | |
| タイマー設定 | 0～999秒 | シーケンサ側タイマー制御 |
| センタリング部 | ||
| ステージ数 | 1 | |
| センタリング方式 | コーナー挟み込み | |
| 位置決めコマ材質 | SUS | |
| プロセスレシピ | ||
| 設定方法 | タッチパネルによる入力および選択 | |
| プログラム登録数 | 8プログラム | ベークプログラム内容、露光設定内容等 |
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