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TOPICS 001:卓上型ローラー転写装置による評価

<概要>

  • 弊社製卓上型ローラー転写装置ERP-200を用いたナノインプリント評価結果について、
    早稲田大学ナノ理工学研究機構 ナノテクノロジー研究所 准教授 水野潤先生および
    凸版印刷総合研究所様との共同研究成果について資料をご提供いただきました。
  • 評価の結果、量産化に不可欠な高精細で広いパターン面積へのナノインプリントについて、ローラー転写装置を用いて実現できる可能性が示されました。


研究の目的

  • ナノインプリント技術の実用化・量産化に不可欠な高精細広いパターン面積
      転写を実現する。


  • 作製パターン

    1. Line and Space pitch120nm(hp60nm)
    2. Hole(テーパー形状)pitch250nm

    写真:石英モールドとPETへの転写結果

  • 実験用石英モールドは凸版印刷株式会社様よりご提供いただきました。


  • 卓上型ローラー転写装置ERP-200(エンジニアリングシステム㈱製)

  • ローラー型転写装置の特徴
  • 写真:卓上型ローラー転写装置ERP-200

    • 8インチサイズまでの転写が可能
    • UV-LED光源にて硬化
    • ロール方式により原版に対しての線の荷重
      →小さな荷重で転写パターンを得ることが可能


    転写結果(1)~Line and Space pitch120nm(hp60nm)~

  • 評価の結果、転写パターンが良好に形成されていることが確認されました。
  • 写真:卓上型ローラー転写装置による転写結果(L&S)



    転写結果(2)~Hole(テーパー形状)pitch250nm~

  • 評価の結果、反射率の低下(1%以下)が確認されました。
  • 写真:卓上型ローラー転写装置による転写結果(Hole)

    • →今後、パターン配置やプロセス最適化により更なる反射率低下(0.3%)を目指します。


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